Code of Federal Regulations (Last Updated: November 8, 2024) |
Title 40 - Protection of Environment |
Chapter I - Environmental Protection Agency |
SubChapter C - Air Programs |
Part 98 - Mandatory Greenhouse Gas Reporting |
Subpart I - Electronics Manufacturing |
Table 1-3 to Subpart I of Part 98 - Default Emission Factors (1-Uij) for Gas Utilization Rates (Uij) and By-Product Formation Rates (Bijk) for Semiconductor Manufacturing for 150 mm and 200 mm Wafer Sizes
Latest version.
-
Pt. 98, Subpt. I, Table I-3 to Subpart I of Part 98—Default Emission Factors (1-U ij ) for Gas Utilization Rates (Uij ) and By-Product Formation Rates (Bijk ) for Semiconductor Manufacturing for 150 mm and 200 mm Wafer SizesProcess - type/sub-type
Process gas i CF 4 C 2 F6 CHF 3 CH 2 F2 C 2 HF5 CH 3 FC 3 F8 C 4 F8 NF 3 SF 6 C 4 F6 C 5 F8 C 4 F8 OEtching/Wafer Cleaning 1-U i 0.81 0.72 0.51 0.13 0.064 0.70 NA 0.14 0.19 0.55 0.17 0.072 NA BCF 4 NA 0.10 0.085 0.079 0.077 NA NA 0.11 0.0040 0.13 0.13 NA NA BC 2 F6 0.046 NA 0.030 0.025 0.024 0.0034 NA 0.037 0.025 0.11 0.11 0.014 NA BC 4 F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BC 4 F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BC 3 F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BC 5 F8 0.0012 NA 0.0012 NA NA NA NA 0.0086 NA NA NA NA NA BCHF 3 0.10 0.047 NA 0.049 NA NA NA 0.040 NA 0.0012 0.066 0.0039 NA Chamber Cleaning In situ plasma cleaning: 1-U i 0.92 0.55 NA NA NA NA 0.40 0.10 0.18 NA NA NA 0.14 BCF 4 NA 0.21 NA NA NA NA 0.20 0.11 0.050 NA NA NA 0.13 BC 2 F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA 0.045 BC 3 F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA Remote plasma cleaning: 1-U i NA NA NA NA NA NA NA NA 0.017 NA NA NA NA BCF 4 NA NA NA NA NA NA NA NA 0.015 NA NA NA NA BC 2 F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BC 3 F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA In situ thermal cleaning: 1-U i NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BCF 4 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BC 2 F6 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA BC 3 F8 NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA NA Notes: NA = Not applicable;i.e., there are no applicable default emission factor measurements for this gas. This does not necessarily imply that a particular gas is not used in or emitted from a particular process sub-type or process type.